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ThalesNano- 泰雷茲納諾中國授權(quán)代理商

簡要描述:ThalesNano- 泰雷茲納諾中國授權(quán)代理商
H-Genie®是研發(fā)TOP- 100屢獲殊榮的緊湊型氫氣發(fā)生器,,利用壓力池技術(shù)生產(chǎn)4.0純度的H2,從水到高達(dá) 100 bar (14.5–1450 psi) 的氫氣,流速高達(dá) 1 NL/min。

  • 產(chǎn)品型號:百瑞科技
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-08
  • 訪  問  量:1920

詳細(xì)介紹

ThalesNano- 泰雷茲納諾中國授權(quán)代理商

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公司介紹:ThalesNano Inc. 泰雷茲納諾公司是一家創(chuàng)新驅(qū)動型公司,專注于開發(fā)臺式流動化學(xué)儀器和解決方案,以應(yīng)對合成化學(xué)挑戰(zhàn)。

公司于2002年在匈牙利布達(dá)佩斯成立。從那時(shí)起,泰雷茲納諾在美國辦事處和全球分銷商網(wǎng)絡(luò)的幫助下,在全球范圍內(nèi)開展業(yè)務(wù)。目前,我們的儀器在全球使用超過1500種。我們的使命是使流動化學(xué)成為日常實(shí)驗(yàn)室例行程序的一部分,并使化學(xué)過程更安全,更輕松,更有效。我們非常重視通過協(xié)助科學(xué)合作和教育來支持研究和開發(fā)。

我們在市場上的第一臺儀器,H-Cube連續(xù)流動加氫反應(yīng)器于2004年推出。該儀器具有突破性的創(chuàng)新氫氣發(fā)生器以及流動化學(xué)技術(shù)的優(yōu)勢。它已獲得研發(fā)TOP -100獎(jiǎng),并被全球數(shù)百家實(shí)驗(yàn)室使用。近年來,H-Cube已成為加氫的新行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

為了滿足市場需求,泰雷茲納諾開發(fā)了新的連續(xù)流動反應(yīng)器,以覆蓋壓力和溫度方面擴(kuò)展的化學(xué)空間。如今,該公司擁有*泛的實(shí)驗(yàn)室規(guī)模儀器產(chǎn)品組合,適用于制藥,生物技術(shù),精細(xì)化學(xué)品,香精香料,農(nóng)用化學(xué)品和石化市場,以及學(xué)術(shù)研究小組和教育。

我們的產(chǎn)品系列解決了具有困難或危險(xiǎn)反應(yīng)的日常問題。我們提供方便、安全的替代方案,具有易重復(fù)性。此外,溫度范圍為-701000°C,壓力從真空到200 bar,可實(shí)現(xiàn)新的化學(xué)參數(shù)窗口,否則在間歇工藝中無法實(shí)現(xiàn)。

關(guān)于催化加氫

催化加氫是當(dāng)今化工行業(yè)最重要的轉(zhuǎn)變之一。多相催化加氫除其他外,用于以下轉(zhuǎn)變:

  • 雙鍵或三鍵減少

  • 硝基減少

  • 脫芐化反應(yīng)

  • 雜環(huán)飽和度

  • 脫鹵反應(yīng)

  • 脫硫反應(yīng)

  • 不對稱加氫

加氫通常使用間歇技術(shù)進(jìn)行。然而,這些反應(yīng)有許多缺點(diǎn)

  • 使用氫氣瓶是一種危險(xiǎn)。

  • 催化劑本身可能是自燃的,使得這些催化劑的添加或過濾變得危險(xiǎn)。

  • 溶劑的脫氣和惰性氣體對反應(yīng)器的吹掃使反應(yīng)過于復(fù)雜。

  • 氫氣與溶劑和催化劑的混合較差,導(dǎo)致反應(yīng)時(shí)間長。

所有這些缺點(diǎn)的結(jié)合意味著化學(xué)家試圖避免這種有用的轉(zhuǎn)變。在泰雷茲納諾,我們開發(fā)了H-Cube系列,以確保以安全簡便的方式再次在實(shí)驗(yàn)室中使用加氫。

關(guān)于流動化學(xué)

什么是流動化學(xué)?

當(dāng)進(jìn)行流動化學(xué)轉(zhuǎn)化時(shí),反應(yīng)發(fā)生在溶解試劑的連續(xù)流動中。應(yīng)用的流動反應(yīng)器可以是固定床型反應(yīng)器,其中反應(yīng)混合物通過固體催化劑或試劑,也可以是管式反應(yīng)器,其中原料,試劑或催化劑均勻溶解在溶液中并通過加熱或冷卻區(qū)泵送。反應(yīng)線的內(nèi)徑通常在千分尺范圍內(nèi)。由于反應(yīng)是連續(xù)進(jìn)行的,因此在給定時(shí)間只有一小部分反應(yīng)混合物。與標(biāo)準(zhǔn)間歇工藝相比,以這種方式進(jìn)行化學(xué)處理具有許多優(yōu)勢:

  • 縮短反應(yīng)時(shí)間

  • 改進(jìn)的溫度控制

  • 多步合成

  • 提高選擇性

改善反應(yīng)時(shí)間和混合:加快反應(yīng)速度

反應(yīng)器的批量越大,實(shí)現(xiàn)均勻混合的難度就越大,如下圖所示。


參考:約翰·古德爾在流動化學(xué)中的演講

低流量的化學(xué)反應(yīng)器加上對反應(yīng)混合物流量的精確控制意味著通過擴(kuò)散實(shí)現(xiàn)精確和可重復(fù)的混合,只需幾厘米。


這導(dǎo)致反應(yīng)的再現(xiàn)性增加。

改進(jìn)的混合還可以縮短反應(yīng)時(shí)間,特別是在使用固定床反應(yīng)器時(shí)。


在固定床反應(yīng)器中,反應(yīng)混合物被推過固體試劑或催化劑。與反應(yīng)混合物相比,催化劑/試劑的比例要高得多。反應(yīng)混合物穿過固體顆粒產(chǎn)生的通道,并在通過反應(yīng)器長度時(shí)連續(xù)相互作用。反應(yīng)混合物不能幫助,但與固體催化劑/試劑相互作用。這可能導(dǎo)致反應(yīng)速率增加幾個(gè)數(shù)量級。如果將其與間歇反應(yīng)進(jìn)行比較,則固體催化劑與其他反應(yīng)混合物相比,化學(xué)計(jì)量學(xué)較低,因此將所有材料吸附到催化劑表面上將花費(fèi)更長的時(shí)間。H-Cube系列均采用固定床反應(yīng)器,可大大縮短反應(yīng)時(shí)間。


改進(jìn)的溫度控制

在流動化學(xué)反應(yīng)器中,表面積與體積比遠(yuǎn)高于普通間歇反應(yīng)器。這有兩個(gè)后果。熱量可以更有效地去除,也可以非常快速地將熱量放入反應(yīng)混合物中。

快速加熱

如果溶劑具有偶極矩,那么微波技術(shù)是在間歇反應(yīng)中加熱溶劑的最快方法,特別是與油浴加熱方法相比。流動化學(xué)反應(yīng)器的表面積體積比得到改善,這意味著流動化學(xué)反應(yīng)器還能夠模擬微波的快速傳熱,其中反應(yīng)混合物僅在幾秒鐘內(nèi)被加熱到設(shè)定溫度。這導(dǎo)致流動化學(xué)反應(yīng)器被用于微波反應(yīng)放大。流動反應(yīng)器的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以使用沒有偶極矩的溶劑。


流動化學(xué)反應(yīng)器、微波或油浴的傳熱比較實(shí)驗(yàn)。

高溫高壓能力

流動化學(xué)反應(yīng)器通常采用HPLC部件。HPLC是另一種形式的流動化學(xué),但用于分離。背壓調(diào)節(jié)器,其中閥門對反應(yīng)混合物的流動產(chǎn)生阻力,可以產(chǎn)生高壓。在泰雷茲納諾,我們利用這些背壓反應(yīng)器產(chǎn)生超過100 bar的壓力。當(dāng)與快速傳熱相結(jié)合時(shí),這意味著我們可以將低沸點(diǎn)溶劑加熱到超過其沸點(diǎn)。高溫受到施加的壓力和溶劑分解的限制。這種方法允許用戶避免使用高沸點(diǎn)溶劑,這些溶劑要么更昂貴,要么更難去除。


使用我們的鳳凰流動反應(yīng)器™,我們可以實(shí)現(xiàn)高達(dá)450°C和100 bar的反應(yīng)參數(shù)。當(dāng)我們在超過300°C的溫度下使用THF合成雙環(huán)雜環(huán)時(shí),我們利用了這一點(diǎn),見下圖。當(dāng)應(yīng)用于吸熱反應(yīng)和反應(yīng)時(shí)間長的反應(yīng)時(shí),高溫和高壓的應(yīng)用特別有用。



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ThalesNano- 泰雷茲納諾中國授權(quán)代理商

1設(shè)備名稱:氫氣發(fā)生器

2用途:

H-Genie®是研發(fā)TOP 100屢獲殊榮的緊湊型氫氣發(fā)生器,,利用壓力池技術(shù)生產(chǎn)4.0純度的H2,從水到高達(dá) 100 bar (14.5–1450 psi) 的氫氣,流速高達(dá) 1 NL/min。

H-Genie一款提供可變氣體流速,反應(yīng)監(jiān)測和壓力能力的氫氣發(fā)生器,可實(shí)現(xiàn)擴(kuò)展和更快的化學(xué)。H-Genie是為間歇化學(xué)和流動化學(xué)應(yīng)用提供高壓氫氣的理想解決方案。該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于任何實(shí)驗(yàn)室,以擴(kuò)展您的化學(xué)能力。

產(chǎn)品特點(diǎn):

只需去離子水,不需要壓縮機(jī)

使用壓力拓展了實(shí)驗(yàn)壓力范圍

用一個(gè)H-GENIE就可以供應(yīng)多臺反應(yīng)釜使用

內(nèi)部配有H2探測器,可實(shí)現(xiàn)自動關(guān)機(jī)

占地面積小,節(jié)省空間

流量、壓力和體積控制

適用于大流量和小流量規(guī)模

自動干燥系統(tǒng):沒有干燥劑桶

簡單的使用和設(shè)置:只需點(diǎn)擊即可

適用于任何實(shí)驗(yàn)室和反應(yīng)釜

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ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器

技術(shù)參數(shù):

氫氣產(chǎn)生速率:0.1-1NL/min

輸出壓力范圍:1-100bar

氣體純度:≥99.99%4.0@100bar

水的純度:建議去離子水的純度<1μS/cm

水的消耗速率:<200cm3/hr

儲水量:內(nèi)部:3L

建議環(huán)境:實(shí)驗(yàn)室通風(fēng)櫥

功率要求:電源:100V to 240V AC, 47– 63Hz

功率消耗:**1500VA

儀器尺寸:345mm×365mm×460mm

儀器重量:38kg

出口參數(shù):1/8英寸外徑的管線,出口閥可以與1/8"外螺紋管線相連接。

操作和存儲/運(yùn)輸環(huán)境:10–35 °C< 80% RH



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